光刻機(jī)概念17日盤中發(fā)力走高,截至發(fā)稿,,紅寶麗,、興業(yè)股份漲停,華懋科技漲超8%,,聚石化學(xué),、佳先股份、捷捷微電等漲超4%,,上海新陽(yáng),、容大感光等拉升。
消息面上,,據(jù)荷蘭政府官網(wǎng)消息,,外貿(mào)和發(fā)展部長(zhǎng)Reinette Klever于1月15日在政府公報(bào)上宣布,2025年4月1日,,荷蘭將修改其針對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備的國(guó)家出口管制措施,,自該日起,更多類型的技術(shù)將受到國(guó)家授權(quán)要求的約束,。這項(xiàng)新的授權(quán)要求是自2023年9月1日推出以來(lái),,荷蘭第二次修改國(guó)家出口管制措施,本次主要是增加了一些限制的設(shè)備品類,。
中信證券表示,,管制涉及的技術(shù)指標(biāo)與對(duì)應(yīng)設(shè)備型號(hào)有較為明確的指向性,相較于之前限制的升級(jí)有限,,尤其是光刻機(jī)的限制措施和2024年9月6日荷蘭政府更新的限制比沒(méi)有變化,。因此,,荷蘭的半導(dǎo)體制裁對(duì)國(guó)內(nèi)整體短期增量影響有限,,但長(zhǎng)期或?qū)?huì)制約我國(guó)半導(dǎo)體節(jié)點(diǎn)迭代能力,。從荷蘭最新的半導(dǎo)體設(shè)備管制清單可以歸納出荷蘭廠商當(dāng)前占有領(lǐng)先地位的、受管制措施影響的相關(guān)領(lǐng)域,,是國(guó)內(nèi)未來(lái)有待突破的方向,。核心限制環(huán)節(jié)包括:ArF浸沒(méi)式光刻機(jī),、EUV光刻機(jī),,金屬及有機(jī)金屬化合物ALD,、Si和SiGe外延,、低k介質(zhì)PECVD,、鎢/鈷/鉬/釕等金屬CVD/PVD等高端薄膜沉積等。1)光刻領(lǐng)域,,關(guān)注國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈公司;2)薄膜沉積領(lǐng)域,;3)量測(cè)檢測(cè)設(shè)備也是國(guó)產(chǎn)化率尚低、有待突破的領(lǐng)域,。
校對(duì):呂久彪