拓荊科技(688072)4月8日午間公告,,公司擬與沈陽市人民政府國有資產(chǎn)監(jiān)督管理委員會(簡稱“沈陽市國資委”)及其他產(chǎn)業(yè)合作方共同發(fā)起設(shè)立遼寧省集成電路裝備及零部件創(chuàng)新中心(簡稱“創(chuàng)新中心”)。
拓荊科技是國內(nèi)量產(chǎn)型PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積),、ALD(原子層沉積)、SACVD(次常壓化學(xué)氣相沉積),、HDPCVD(高密度等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積),、超高深寬比溝槽填充CVD等薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備的領(lǐng)軍企業(yè)。拓荊科技目前已經(jīng)形成半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備兩個(gè)產(chǎn)品系列,。拓荊科技聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī),、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。
近年來,,拓荊科技始終持續(xù)保持高強(qiáng)度的研發(fā)投入,,堅(jiān)持自主創(chuàng)新,在推進(jìn)新產(chǎn)品研發(fā),、產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化和各產(chǎn)品系列迭代升級的過程中取得了重要成果,,包括Flowable CVD設(shè)備、PECVD Bianca工藝設(shè)備,、PE-ALD SiN工藝設(shè)備,、HDPCVD FSG、HDPCVDSTI工藝設(shè)備,、鍵合套準(zhǔn)精度量測設(shè)備等一系列新產(chǎn)品及新工藝經(jīng)下游用戶驗(yàn)證導(dǎo)入,,實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化。同時(shí),,新型設(shè)備平臺PF-300M,、PF-300T Plus及新型反應(yīng)腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工藝設(shè)備持續(xù)獲得客戶重復(fù)訂單,,實(shí)現(xiàn)大批量出貨,,進(jìn)一步提升了公司產(chǎn)品性能及核心競爭力。
2021年,、2022年,、2023年、2024年前三季度,,拓荊科技研發(fā)投入分別為2.88億元,、3.79億元、5.76億元和4.81億元,。
對于本次攜手沈陽市國資委等共同發(fā)起設(shè)立創(chuàng)新中心事宜,,拓荊科技表示,本次創(chuàng)新中心的設(shè)立,,將充分整合多方優(yōu)勢資源共同發(fā)揮積極作用,。一方面,沈陽市國資委發(fā)揮統(tǒng)籌協(xié)調(diào)作用,,依托其豐富的資源,,幫助創(chuàng)新中心對接投資人,,為創(chuàng)新中心的發(fā)展提供資金支持并營造良好環(huán)境;另一方面,,公司與其他產(chǎn)業(yè)方憑借在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的突出行業(yè)地位和深厚的技術(shù)優(yōu)勢,,為創(chuàng)新中心的發(fā)展提供有力支撐。
據(jù)介紹,,創(chuàng)新中心將基于這些資源和優(yōu)勢的整合,,積極響應(yīng)國家戰(zhàn)略發(fā)展規(guī)劃,圍繞半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢布局前沿技術(shù),,進(jìn)一步推動整機(jī)裝備和零部件企業(yè)集聚發(fā)展,,不斷增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)協(xié)同效應(yīng)和創(chuàng)新能力,助力國家集成電路產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展,。
拓荊科技2024年年報(bào)預(yù)披露日期是4月25日,。此前,公司于2月27日晚披露2024年度業(yè)績快報(bào),,2024年度公司實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入41.03億元,,同比增長51.7%;實(shí)現(xiàn)凈利潤6.88億元,,同比增長3.91%,;扣非凈利潤3.56億元,同比增長14.2%,。
拓荊科技2024年?duì)I業(yè)收入之所以能同比增長51.7%主要系市場需求持續(xù)增長,,公司新產(chǎn)品及新工藝訂單陸續(xù)實(shí)現(xiàn)收入轉(zhuǎn)化,營業(yè)收入持續(xù)高速增長,。2024年度,,拓荊科技出貨超過1000個(gè)設(shè)備反應(yīng)腔,創(chuàng)公司歷史年度新高,。